单项选择题
A.曝光B.涂胶C.去胶D.显影
最常用的砷化橡的湿法刻蚀腐蚀液包括（）A.硫酸B.氢氟酸C.双氧水D.去离子水
多项选择题最常用的砷化橡的湿法刻蚀腐蚀液包括（）
A.硫酸B.氢氟酸C.双氧水D.去离子水
回态源扩散的杂质源有（）A.硼酸三甲酯B.氮化硼C.硼D.磷微晶玻璃片
多项选择题回态源扩散的杂质源有（）
A.硼酸三甲酯B.氮化硼C.硼D.磷微晶玻璃片
在离子注入完成后，检验到硅片表面有颗粒污染严重的情况，该情况引起的主要问题有（）A.在局部阻挡掺杂B.对器件结...
多项选择题在离子注入完成后，检验到硅片表面有颗粒污染严重的情况，该情况引起的主要问题有（）
A.在局部阻挡掺杂B.对器件结构造成连接或短路C.对微小器件结构造成沟型损伤D.整片硅片报废
