通常利用TEM观测的分辨率高于SEM。

光刻技术中的反刻工艺，通常应用于（）的情况。A.对光刻精度较高B.光刻图案密度较高C.光刻的材料易于腐蚀D.光...

单项选择题光刻技术中的反刻工艺，通常应用于（）的情况。

在CMOS工艺中，最为昂贵的步骤是：（）A.腐蚀B.离子注入C.光刻D.CVD

单项选择题在CMOS工艺中，最为昂贵的步骤是：（）

提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。

判断题提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。