单项选择题

浸入式光刻技术可以使193nm光刻工艺的最小线宽减小到45nm以下。它通过采用折射率高的液体代替透镜组件间的空气,达到()的目的。

A.增大光源波长;
B.减小光源波长;
C.减小光学系统数值孔径;
D.增大光学系统数值孔径。