单项选择题
A.等离子去胶B.溶剂去胶C.氧化去胶D.三氯乙烯去胶
下图属于什么光刻机?()A.接触式光刻机B.步进扫描光刻机C.分布重复光刻机D.接近式光刻机
下图属于什么光刻机?()
A.接触式光刻机B.步进扫描光刻机C.分布重复光刻机D.接近式光刻机
对于0.25um及以下的隔离技术采用以下()方式。A.局部氧化隔离B.PN结隔离C.PN结-介质隔离D.浅槽隔...
单项选择题对于0.25um及以下的隔离技术采用以下()方式。
A.局部氧化隔离B.PN结隔离C.PN结-介质隔离D.浅槽隔离
WCVD工艺第一步是()。A.浸润B.成核C.BULKD.直接反应
单项选择题WCVD工艺第一步是()。
A.浸润B.成核C.BULKD.直接反应