单项选择题
A.降低;降低B.降低;升高C.升高;降低D.升高;升高
对于n型半导体构成的非理想MIS结构,在()条件下半导体表面达到强反型。A.高频B.低频C.VG=Vi+2Vs...
单项选择题对于n型半导体构成的非理想MIS结构,在()条件下半导体表面达到强反型。
A.高频B.低频C.VG=Vi+2VsD.VG=Vi+2Vs+VFB
金属-半导体(p型中等掺杂)接触在()条件下形成阻挡层,其电学特性为()。A.Wm>Ws;整流特性B.Wm>...
单项选择题金属-半导体(p型中等掺杂)接触在()条件下形成阻挡层,其电学特性为()。
A.Wm>Ws;整流特性B.Wm>Ws;欧姆特性C.Wm<Ws;整流特性D.Wm<Ws;欧姆特性
杂质半导体进入全电离的温度存在()规律,进入本征激发区的温度存在()规律。A.杂质浓度越高,该温度越低;禁带宽...
单项选择题杂质半导体进入全电离的温度存在()规律,进入本征激发区的温度存在()规律。
A.杂质浓度越高,该温度越低;禁带宽度越大,该温度越低B.杂质浓度越高,该温度越低;禁带宽度越大,该温度越高C.杂质浓度越高,该温度越高;禁带宽度越大,该温度越低D.杂质浓度越高,该温度越高;禁带宽度越大,该温度越高