利用高能粒子撞击具有高纯度靶材料表面，撞击出的原子最后淀积在硅片上的物理过程是（）

解决铝尖刺的方法有（）A.在合金化的铝中适当地添加铜B.采用三层夹心结构C.在合金化的铝中适当地添加硅D.采用...

单项选择题解决铝尖刺的方法有（）

（）是芯片制造过程中在元器件表面上淀积金属薄膜以及随后刻印图形以使形成互连线和集成电路填充塞的过程。A.刻蚀B...

单项选择题（）是芯片制造过程中在元器件表面上淀积金属薄膜以及随后刻印图形以使形成互连线和集成电路填充塞的过程。

通常被用于深紫外光刻胶的准分子激光器的光源材料是（）A.KrFB.F2C.ArFD.XeF

单项选择题通常被用于深紫外光刻胶的准分子激光器的光源材料是（）