刻蚀机的电源类型通常为（）。

刻蚀过程中的掩膜材料通常要求（）。A.耐高温B.耐刻蚀C.导电性好D.以上都是

单项选择题刻蚀过程中的掩膜材料通常要求（）。

刻蚀机的冷却系统通常采用（）。A.风冷B.水冷C.液氮冷却D.自然冷却

单项选择题刻蚀机的冷却系统通常采用（）。

刻蚀过程中的等离子体密度对刻蚀效果的影响是（）。A.密度越高，刻蚀速率越快B.密度越高，刻蚀选择性越好C.密度...

单项选择题刻蚀过程中的等离子体密度对刻蚀效果的影响是（）。