物理气相沉积或PVD法可分为三种基本类型：真空蒸镀、离子镀、真空溅射，其中，离子镀沉积效果最好。

物理气相沉积或PVD法是通过真空蒸发或真空溅射等物理过程，使金属表面沉积元素或化合物层的工艺方法。

判断题物理气相沉积或PVD法是通过真空蒸发或真空溅射等物理过程，使金属表面沉积元素或化合物层的工艺方法。

PVD覆盖层的组织结构同CVD一样。

判断题PVD覆盖层的组织结构同CVD一样。

PVD沉积温度一般低于600℃，但沉积速度快。

判断题PVD沉积温度一般低于600℃，但沉积速度快。