多项选择题
A.分辨率高B.显影时曝光部分不溶解，未曝光部分溶解C.分辨率低D.显影时曝光部分溶解，未曝光部分不溶解
提高光刻分辨率的途径有（）。A.增大数值孔径NAB.增大曝光波长C.减小曝光波长D.减小数值孔径NA
多项选择题提高光刻分辨率的途径有（）。
A.增大数值孔径NAB.增大曝光波长C.减小曝光波长D.减小数值孔径NA
光刻工艺流程中后烘的作用是（）。A.消除驻波效应B.蒸发PR中所有有机溶剂C.提高光刻胶和表面的黏附性D.平...
多项选择题光刻工艺流程中后烘的作用是（）。
A.消除驻波效应B.蒸发PR中所有有机溶剂C.提高光刻胶和表面的黏附性D.平滑光刻胶侧壁
光刻是集成电路制造最重要的工艺，是因为（）。A.光刻耗费时间最多B.光刻耗费时间最少C.光刻决定了特征尺寸D....
多项选择题光刻是集成电路制造最重要的工艺，是因为（）。
A.光刻耗费时间最多B.光刻耗费时间最少C.光刻决定了特征尺寸D.光刻成本最高
