问答题
1、气相外延（VPE）：常用的硅外延方法，属于CVD范畴2、金属有机CVD（MOCVD）：用来淀积化合物半导......
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简述HPCVD工艺的五个步骤
问答题简述HPCVD工艺的五个步骤
化学气相淀积（CVD）的概念，有哪五种基本化学反应？
问答题化学气相淀积（CVD）的概念，有哪五种基本化学反应？
简述淀积膜的过程的三种不同阶段
问答题简述淀积膜的过程的三种不同阶段
