蒸发淀积多元化合金薄膜时，可较好控制其化学成分。（）

P1848设备TEOS水浴加热后通过He携带进入腔体与O2气发生反应生成SiO2。（）

判断题P1848设备TEOS水浴加热后通过He携带进入腔体与O₂气发生反应生成SiO₂。（）

溅射淀积工艺的金属台阶覆盖要比蒸发淀积的台阶覆盖更好。（）

判断题溅射淀积工艺的金属台阶覆盖要比蒸发淀积的台阶覆盖更好。（）

液态TEOS源是采用载流气体鼓泡方式携带，例如N2、O2、He，而P1102.TEOS工艺是采用（）进入反应炉...

单项选择题液态TEOS源是采用载流气体鼓泡方式携带，例如N₂、O₂、He，而P1102.TEOS工艺是采用（）进入反应炉。