真空蒸镀必须在高真空下完成。

PVD常用于制备金属薄膜。

判断题PVD常用于制备金属薄膜。

CVD可以制备多种薄膜，所以应用广泛。

判断题CVD可以制备多种薄膜，所以应用广泛。

热氧化制备二氧化硅的质量比CVD差。

判断题热氧化制备二氧化硅的质量比CVD差。