问答题
1、时间与温度，恒定表面源主要是时间。 2、硅晶体中存在其他类型的点缺陷
简述栅氧化层生长的典型干法氧化工艺流程
问答题简述栅氧化层生长的典型干法氧化工艺流程
列举IC芯片制造过程中热氧化SiO2的用途？
问答题列举IC芯片制造过程中热氧化SiO2的用途？
简述晶圆的制造步骤
问答题简述晶圆的制造步骤
