简答题 试说明半导体制造中扩散工艺的主要目的。列出并解释实际扩散工艺的主要步骤，并说明个步骤的主要作用和工艺温度。

明两步扩散法的基本思想，及其每一步工艺的主要特点和目的。

问答题明两步扩散法的基本思想，及其每一步工艺的主要特点和目的。

解释有限表面源扩散，列出有限表面源扩散的三种主要工艺参数，并说明其含义和主要影响因素。

问答题解释有限表面源扩散，列出有限表面源扩散的三种主要工艺参数，并说明其含义和主要影响因素。

列出恒定表面源扩散的三种主要工艺参数，并说明其含义和主要影响因素。

问答题列出恒定表面源扩散的三种主要工艺参数，并说明其含义和主要影响因素。