简答题 为什么说光刻是IC制造中最重要的工艺？光刻的三个要素是什么？

简述PECVD技术的工艺原理、工艺特征及工艺应用。

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在双极集成电路和MOS集成电路工艺中，为什么都要用外延层？

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试对比分析扩散工艺和离子注入工艺的特征和特点。

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