刻蚀氮化硅薄膜时，可以用加热的磷酸进行刻蚀，此时的温度一般设置在（）

一般情况下，刻蚀完成后需要进行的操作是（）A.曝光B.涂胶C.去胶D.显影

单项选择题一般情况下，刻蚀完成后需要进行的操作是（）

最常用的砷化橡的湿法刻蚀腐蚀液包括（）A.硫酸B.氢氟酸C.双氧水D.去离子水

多项选择题最常用的砷化橡的湿法刻蚀腐蚀液包括（）

回态源扩散的杂质源有（）A.硼酸三甲酯B.氮化硼C.硼D.磷微晶玻璃片

多项选择题回态源扩散的杂质源有（）