（）就是用功率密度很高的激光束照射半导体表面，使其中离子注入层在极短的时间内达到高温，消除损伤。

目前，最广泛使用的退火方式是（）。A.热退火B.激光退火C.电子束退火D.离子束退火

单项选择题目前，最广泛使用的退火方式是（）。

损伤的分布与注入离子在在靶内的（）的分布密切相关。A.能量淀积B.动量淀积C.能量振荡D.动量振荡

单项选择题损伤的分布与注入离子在在靶内的（）的分布密切相关。

哪种方法可以增加缺陷的积累率而降低临界注入量：（）。A.低温注入B.常温注入C.高温注入D.分子注入E.双注入

多项选择题哪种方法可以增加缺陷的积累率而降低临界注入量：（）。