问答题
侧墙用来环绕多晶硅栅侧壁阻挡大剂量的S/D注入以免其接近沟道导致源漏穿通。
简述轻掺杂漏（LDD）工艺目的。
问答题简述轻掺杂漏（LDD）工艺目的。
简述什么是浅槽隔离STI及优点。
问答题简述什么是浅槽隔离STI及优点。
简述LOCOS隔离原理。
问答题简述LOCOS隔离原理。
