APCVD成膜速度快，可用于制备较厚的薄膜。

CVD常用于淀积介质薄膜。

判断题CVD常用于淀积介质薄膜。

VPE过程其实就是一种CVD的过程。

判断题VPE过程其实就是一种CVD的过程。

CVD淀积二氧化硅的原理跟热氧化相同。

判断题CVD淀积二氧化硅的原理跟热氧化相同。