显影后，被曝光区域的光刻胶被去除，该种光刻胶称为（）。

MOS晶体管的源区、漏区及源、漏之间的沟道区域通常称为（）。A.有源区B.场区C.衬底区D.阱区

单项选择题MOS晶体管的源区、漏区及源、漏之间的沟道区域通常称为（）。

氧化层中掺杂了硼杂质，一般称为（）。A.PSGB.BPSGC.BSGD.FSG

单项选择题氧化层中掺杂了硼杂质，一般称为（）。

如果制作栅氧结构，一般采用的方法是（）。A.湿氧氧化B.氢氧合成C.CVDD.干氧氧化

单项选择题如果制作栅氧结构，一般采用的方法是（）。