欢迎来到牛牛题库网
牛牛题库官网
登录
注册
首页
经济师考试
会计职称考试
统计师考试
审计师考试
保险考试
全部科目
>
大学试题
>
工学
>
电子与通信技术
>
微电子学
搜题找答案
问答题
简答题
离子注入掺杂的优点是什么？写出CMOS集成电路制备工艺中用到的离子注入。
【参考答案】
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
问答题
什么是含Cl氧化，含Cl氧化的好处是什么？
填空题
单晶硅太阳能电池采用（）表面来增加表面积，用沉积Si
3
N
4
作（）膜来降低入射光的反射，用在扩散层表面氧化生长（）nm的钝化层，改变表面层硅原子价键失配，减少表面复合，提高短路电流。用PECVD法沉积Si
3
N
4
时，反应中大量的原子H可以降低钝化层与表层硅界面的（）
填空题
圆筒式等离子刻蚀的（），适用于（）工艺；反应离子刻蚀，（），可以用通入不同的工艺气体，实现好的选择性，适合于对（）和（）的刻蚀。
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题
