欢迎来到牛牛题库网 牛牛题库官网
logo
搜索
全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 集成电路技术 > 集成电路技术综合练习

多项选择题

光刻胶的主要成分有（）

A.感光剂
B.溶剂
C.聚合物材料
D.胶水

点击查看答案&解析
上一题 目录 下一题

相关考题

多项选择题
光刻工艺三要素为（）

A.光刻机
B.光刻胶
C.掩膜版
D.涂胶机
多项选择题
单晶硅生长是将电子级纯的多晶硅华为单晶硅锭，要实现这一条件需满足三个条件：（）、（）、（）。

A.原子具有一定的动能
B.要有一个排列标准
C.排列好的原子能稳定下来
D.不能含有任何杂质
多项选择题
切片是抛光片制备中一道重要的工序，因为这一工序基本上决定了硅片的四个重要参数，即晶向、（）、（）、（）。

A.平行度
B.直径
C.翘度
D.厚度
微信小程序免费搜题

All Rights Reserved 版权所有©牛牛题库网(nntiku.com)

备案号：湘ICP备2022003000号-1

微信扫一扫,加关注免费搜题

微信扫一扫,加关注免费搜题