欢迎来到牛牛题库网牛牛题库官网

注册

全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 集成电路技术 > 集成电路技术综合练习

多项选择题

金属W（钨）的用途有（）。

A.局部互连
B.全局互连
C.钨插塞
D.栅极

点击查看答案&解析

上一题目录下一题

相关考题

多项选择题

下列属于多晶硅薄膜的特性有（）。

A.扩散系数明显高于单晶硅
B.晶粒尺寸大的薄膜电阻率小
C.晶向唯一
D.电阻率远高于单晶硅

多项选择题

LPCVD系统与PECVD系统相比，它们的相同点有（）。

A.产量低
B.可淀积Si₃N₄等
C.台阶覆盖好
D.反应控制

多项选择题

‎APCVD系统的缺点有（）。‎

A.均匀性差
B.易发生气相反应
C.台阶覆盖
D.高温工艺

微信小程序免费搜题

All Rights Reserved 版权所有©牛牛题库网(nntiku.com)

备案号：湘ICP备2022003000号-1

关注
顶部

微信扫一扫,加关注免费搜题

微信扫一扫,加关注免费搜题