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单项选择题

浸入式光刻技术可以使193nm光刻工艺的最小线宽减小到45nm以下。它通过采用折射率高的液体代替透镜组件间的空气，达到（）的目的。

A.增大光源波长；
B.减小光源波长；
C.减小光学系统数值孔径；
D.增大光学系统数值孔径。

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单项选择题
如果淀积的膜在台阶上过度地变薄，就容易导致高的膜应力、电短路或者在器件中产生不希望的（）。

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B. 鸟嘴效应
C. 陷阱电荷
D. 可移动电荷
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B.高化学稳定性；
C.低介电常数；
D.高介电强度。
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A.35；
B.100；
C.102；
D.237。
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