多项选择题
A.点缺陷的产生 B.点缺陷分解 C.点缺陷的复合 D.点缺陷的扩散
A.中间化合物的分离提纯 B.中间化合物的合成 C.中间产物被还原或者是分解成高纯硅还原成高纯硅 D.区域提纯
A.不需用氢还原，甲硅烷可以热分解为多晶硅B.硅烷气体易于用吸附法提纯C.易于分解为非晶硅D.硅烷易爆炸
A.SiO很容易发生化学反应B.温度高于1500℃，由SiO2和SiC反应得到C.能在1500℃与C发生反应D.能与氧气发生反应
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