多项选择题
A.非晶硅晶化制备B.将多晶硅片切薄C.利用化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜D.对多晶硅片进行热处理
A.正离子柱区 B.法拉第暗区 C.阳极辉光 D.阴极辉光
A.SiHCl3 B.SiO2 C.Si D.SiH4
A.微晶硅B.多晶硅C.单晶硅D.非晶硅
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