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薄膜物理与技术
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判断题
蒸发淀积多元化合金薄膜时，可较好控制其化学成分。（）
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判断题
P1848设备TEOS水浴加热后通过He携带进入腔体与O
2
气发生反应生成SiO
2
。（）
判断题
溅射淀积工艺的金属台阶覆盖要比蒸发淀积的台阶覆盖更好。（）
单项选择题
液态TEOS源是采用载流气体鼓泡方式携带，例如N
2
、O
2
、He，而P1102.TEOS工艺是采用（）进入反应炉。
A.N
2
B.O
2
C.He
D.水浴饱和蒸汽
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