单项选择题
A.掩膜版B.对准和曝光C.光刻机D.光刻胶
A.碱溶液清洗B.有机溶液清洗C.HF结尾的清洗工艺D.去离子水冲洗
A.光刻胶B.Si衬底C.刻蚀气体中的碳和其它物质组成的化合物D.刻蚀溶液
A.实现电激活B.修复损伤C.提高掺杂均匀性D.加大损伤
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