单项选择题
A.温度B.厚度C.硅晶向D.掺杂
A.干氧氧化B.湿氧氧化C.离子氧化D.水蒸汽氧化
A.元器件的组成部分（如栅氧化层）B.源漏极C.互连层间绝缘介质D.作为掩蔽膜
A.几何设计规则是版图图形编辑的依据B.几何设计规则是设计系统生成版图的依据C.几何设计规则是分析计算的依据D.几何设计规则是检查版图错误的依据
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