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单项选择题

集成电路设计及制造中，版图（Layout）与掩膜（Mask）的关系是（）。‍

A.根据版图提供的信息来制造掩膜
B.根据掩膜提供的信息来设计版图
C.版图（Layout）与掩膜（Mask）的毫无关系
D.不确定

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集成电路制造工艺中，以下对氧化速率没有影响的因素是（）。‌

A.温度
B.厚度
C.硅晶向
D.掺杂
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B.湿氧氧化
C.离子氧化
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单项选择题
集成电路制造工艺中，二氧化硅膜不能用于（）。​

A.元器件的组成部分（如栅氧化层）
B.源漏极
C.互连层间绝缘介质
D.作为掩蔽膜
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