填空题
气相外延;液相外延;固相外延
CVD过程中化学反应所需的激活能来源有()、()、()等。
填空题CVD过程中化学反应所需的激活能来源有()、()、()等。
常用的溅射镀膜气体是(),射频溅射镀膜的射频频率是()。
填空题常用的溅射镀膜气体是(),射频溅射镀膜的射频频率是()。
溅射镀膜方法有()、()、()、()等。
填空题溅射镀膜方法有()、()、()、()等。