填空题
直流溅射；射频溅射；偏压溅射；磁控溅射（反应溅射、离子束溅射）
离子对物体表面轰击时可能发生的物理过程有（）、（）、（）、（）。
填空题离子对物体表面轰击时可能发生的物理过程有（）、（）、（）、（）。
自持放电的形式有（）、（）、（）、（）。
填空题自持放电的形式有（）、（）、（）、（）。
真空蒸发设备由三大部分组成，分别是（）、（）、（）及（）系统。
填空题真空蒸发设备由三大部分组成，分别是（）、（）、（）及（）系统。
