问答题
1、硅局部氧化形成过程中，作为阻挡氧气扩散的遮蔽层。2、作为化学抛光的遮挡层。3、用于形成侧壁空......
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影响扩散工艺中杂质分布的因素
问答题影响扩散工艺中杂质分布的因素
简述栅氧化层生长的典型干法氧化工艺流程
问答题简述栅氧化层生长的典型干法氧化工艺流程
列举IC芯片制造过程中热氧化SiO2的用途？
问答题列举IC芯片制造过程中热氧化SiO2的用途？
