从安全上看，四氯化硅氢还原法、三氯氢硅氢还原法、硅烷热分解法的安全性从小到大排列的顺序为（）

注入能量和剂量分别控制了掺杂层的（）A.长度和宽度B.电阻率和电导率C.浓度和结深D.结深和浓度

单项选择题注入能量和剂量分别控制了掺杂层的（）

掺杂结束后，要对硅片进行质量检测，造成硅片表面有颗粒污染的原因可能是（）A.离子束中混入电子B.注入机未清洁干...

单项选择题掺杂结束后，要对硅片进行质量检测，造成硅片表面有颗粒污染的原因可能是（）

用比色法进行氧化层厚度的检测时，看到的色彩是（）色彩。A.反射B.干涉C.衍射D.二氧化硅膜本身

单项选择题用比色法进行氧化层厚度的检测时，看到的色彩是（）色彩。