问答题
晶体机构中质点排列的某种不规则性或不完善性。又称晶格缺陷。
pn结的击穿电压和反向漏电流既是晶体管的重要直流参数，也是评价（）的重要标志。A.扩散层质量B.设计C.光刻
单项选择题pn结的击穿电压和反向漏电流既是晶体管的重要直流参数，也是评价（）的重要标志。
A.扩散层质量 B.设计 C.光刻
器件的横向尺寸控制几乎全由（）来实现。A.掩膜版B.扩散C.光刻
单项选择题器件的横向尺寸控制几乎全由（）来实现。
A.掩膜版 B.扩散 C.光刻
反应离子腐蚀是（）。A.化学刻蚀机理B.物理刻蚀机理C.物理的溅射刻蚀和化学的反应刻蚀相结合
单项选择题反应离子腐蚀是（）。
A.化学刻蚀机理 B.物理刻蚀机理 C.物理的溅射刻蚀和化学的反应刻蚀相结合
