单项选择题
A.溅射工艺重复性好B.溅射角度大C.溅射工艺复杂D.溅射原子迁移能力强
以下不属于真空蒸发的局限性的是()。A.生长机理简单B.工艺重复性C.台阶覆盖能力差D.薄膜与衬底附着力小
单项选择题以下不属于真空蒸发的局限性的是()。
A.生长机理简单B.工艺重复性C.台阶覆盖能力差D.薄膜与衬底附着力小
以下不属于电子束加热的优点的是()。A.蒸发温度高B.工艺设备简单C.热效率高D.高纯度淀积
单项选择题以下不属于电子束加热的优点的是()。
A.蒸发温度高B.工艺设备简单C.热效率高D.高纯度淀积
以下不属于真空蒸发过程的是()。A.气相输运B.薄膜淀积C.薄膜定向D.加热蒸发
单项选择题以下不属于真空蒸发过程的是()。
A.气相输运B.薄膜淀积C.薄膜定向D.加热蒸发