单项选择题
A.铜B.铝C.钨D.金
化学机械抛光液的主要成分不包括的是哪个?()A.还原剂B.分散剂C.腐蚀介质D.磨料
单项选择题化学机械抛光液的主要成分不包括的是哪个?()
A.还原剂B.分散剂C.腐蚀介质D.磨料
CMP的设备构成包括()。A.台板B.抛光液C.抛光垫D.夹持设备
多项选择题CMP的设备构成包括()。
A.台板B.抛光液C.抛光垫D.夹持设备
新的平坦化方法有哪几个?()A.固结磨料CMP技术B.无磨粒CMP技术C.无应力抛光技术D.电化学机械平坦化技...
多项选择题新的平坦化方法有哪几个?()
A.固结磨料CMP技术B.无磨粒CMP技术C.无应力抛光技术D.电化学机械平坦化技术