判断题
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关于离子注入区形成非晶层的临界剂量,下面哪几种说法正确()A.靶温升高,临界剂量上升B.注入离子越轻,临界剂量...
多项选择题关于离子注入区形成非晶层的临界剂量,下面哪几种说法正确()
A.靶温升高,临界剂量上升B.注入离子越轻,临界剂量越小C.注入离子剂量率增大,临界剂量降低D.注入离子能量越高,临界剂量越低
扩散系数在何时不可以看成是常数()A.在本征硅上扩散掺入中等浓度的杂质硼B.在重掺杂p型硅上扩散掺入n型杂质C...
多项选择题扩散系数在何时不可以看成是常数()
A.在本征硅上扩散掺入中等浓度的杂质硼B.在重掺杂p型硅上扩散掺入n型杂质C.在中等浓度p型硅上扩散掺入n型杂质D.在本征硅上扩散掺入高浓度的杂质硼,同时进行氧化
扩散掺杂,扩散区要比掩膜窗口尺寸(),这是()效应引起的,它直接影响超大规模集成电路的集成度。A.大,场助扩散...
单项选择题扩散掺杂,扩散区要比掩膜窗口尺寸(),这是()效应引起的,它直接影响超大规模集成电路的集成度。
A.大,场助扩散B.大,横向扩散C.小,横向扩散D.大,氧化增强