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多项选择题

CVD淀积SiO2薄膜过程中主要涉及的运动有哪些？（）

A.漂移运动
B.反应运动
C.扩散运动
D.加接运动

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多项选择题
CVD基本过程包括（）。

A.在表面进行化学反应，在表面淀积成薄膜
B.副产物脱离吸附
C.脱吸副产物逸出反应室
D.反应剂传输至衬底表面，反应剂吸附在表面
多项选择题
‏CVD薄膜有哪些应用？（）

A.钨塞
B.钝化层
C.层间介质BPSG
多项选择题
‍CVD技术可以制备的薄膜有（）。

A.SiO2
B.单晶硅
C.BSG
D.Si3N4
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