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全部科目 > 通信电子计算机技能考试 > 集成电路制造工艺员 > 集成电路制造工艺员(三级)

单项选择题

不可以对SiO2进行干法刻蚀所使用的气体是()。

A.CHF3
B.C2F6
C.C3F8
D.HF
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