单项选择题
A.反射B.干涉C.衍射D.二氧化硅膜本身
A.外延B.热氧化C.PVDD.CVD
A.形成所需的二氧化硅膜厚B.获得致密的二氧化硅表面C.提高二氧化硅和光刻胶的黏附性D.改善二氧化硅和硅交界面的性能
A.siliconB.polyC.substrateD.film
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