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多项选择题

1990’s CMOS IC 工艺技术特征是（）。

A.浅槽隔离工艺
B.铝栅工艺
C.多晶硅栅工艺
D.硅外延片衬底

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多项选择题
‌Stepper的优点有（）。

A.光刻版的精度和良率高
B.可分步重复曝光
C.减小了尘埃的影响
D.套刻精度高
多项选择题
‎对非光学曝光表述正确的是（）。

A.X-射线是非光学曝光
B.电子束是非光学曝光
C.非光学曝光都不需要光刻版
D.EUV是非光学曝光
多项选择题
对移相掩膜（PSM）表述正确的是（）。

A.使光通过后产生180度相位差
B.提高分辨率
C.消除了图形边缘的衍射
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